• PVD多弧离子镀膜机
PVD多弧离子镀膜机
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PVD多弧离子镀膜机

离子镀技术是一种真正能够获得纳米级镀层且无污染的环保型表面处理方法。可在真空环境中制备各种单一金属膜(铝、、铬等)氯化物和碳化物膜、多层膜、复合膜等多种陶瓷结构膜层,可以是金属表面具有耐磨损,耐高温,耐腐蚀,抗氧化,防辐射,导电,导磁,绝缘和装饰灯许多由于固体材料本身的优越性能。

描述

产品信息

离子镀技术是一种真正能够获得纳米级镀层且无污染的环保型表面处理方法。可在真空环境中制备各种单一金属膜(铝、、铬等)氯化物和碳化物膜、多层膜、复合膜等多种陶瓷结构膜层,可以是金属表面具有耐磨损,耐高温,耐腐蚀,抗氧化,防辐射,导电,导磁,绝缘和装饰灯许多由于固体材料本身的优越性能。

通过离子镀法获得的薄膜,具有小晶粒尺寸,高缺陷浓度,较低的再结晶温度(金属),较低的屈服点,较高的内应力,亚稳态的结构,成分上的非化学配比等特性。必究真空阵法镀膜和溅射镀膜相比,离子镀膜具有附着性能好、绕射性能好、刻度膜材料种类广泛、沉淀速率快。

PVD离子镀膜层不易剥落,氧化,推测,表面不易形成污垢,擦洗简单,而且镀膜成本低。本公司的技术支持下,我们可以在不锈钢、钵、铜、合金、锌合金等不同基材上镀制膜层。

PVD镀膜常见膜层颜色有: 深/浅金黄色,咖啡色,古铜色,灰色,黑色,七彩色等。

 

机械参数

型号

DJH-0808

DJH-1215

DJH-1820

DJH-1835

镀膜室尺寸

ɸ800xH800mm

ɸl200xH1500mm

ɸl800xH2000mm

ɸl800xH3500mm

极限压力

5xl0'4 Pa

5x10“ Pa

8x10“ Pa

8xl0'5 Pa

恢复直空抽气时间

中势:从大气3

甫至2x10〃 pa w7min

高性能电弧源

6只,靶材尺寸8100x40mm

12-14R;靶材尺寸(plOOx40mm

24只;靶材尺寸QlOOx40mm

26-30只靶材尺寸(plOOx40mm ;

工作偏压

30KW自适应

烘烤系统

PID控制,最高3500c

充气系统

质量流量控制仪(可选国产或进口)

电气控制系统

PLC自动控制,配置人机界面(触摸屏)实行人性化操作

真空测量系统

可编程全量程真空计

装机功率

36

68

120

136

占地面积(米)

大约2x2x2

大约3x3x2

大约6x7x3

大约6x7x5

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