真空离子镀膜机及其分类
时间:
2023-07-31 09:53
真空离子镀膜机 (简称离子镀) 是D.美国Somdia公司的MMaftox 1963年，在20世纪70年代迅速发展起来。它是指在真空气氛中使用蒸发源或溅射靶来蒸发或溅射膜材料的过程。一部分蒸发或溅射的粒子在气体放电空间中电离成金属离子，这些粒子在电场的作用下沉积在基板上形成薄膜。
目前，真空离子镀薄膜的种类很多，通常根据薄膜材料产生的离子源分为两种: 蒸发源离子镀和溅射靶离子镀。前者通过加热蒸发膜材料产生金属蒸气，使其在气体放电等离子体的空间中部分电离成金属蒸气和高能中性原子，并通过电场的作用在衬底上产生薄膜；后者利用高能离子 (如Ar) 轰击薄膜材料表面，使溅射粒子通过气体放电的空间电离成离子或高能中性原子，到达衬底表面并产生薄膜。
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