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电弧放电电源增强磁控溅射镀膜

电弧放电电源增强磁控溅射镀膜

磁控溅射镀膜是在辉光放电中进行的，放电电流密度低，镀膜室内等离子体密度低，导致磁控溅射技术的缺点如附着力低，金属电离率低，

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晶体硅太阳能电池涂层技术的发展

晶体硅太阳能电池涂层技术的发展

晶体硅电池技术的发展方向包括PERT技术和Topcon技术，它们被视为传统扩散方法电池技术的延伸。它们的共同特点是在电池的背面有一个钝化层，

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电子枪蒸发镀膜操作工艺

电子枪蒸发镀膜操作工艺

高压电子枪发射的电子束密度非常高。如果没有正确控制电子束着陆点，则电子束无法偏转到金属铸锭上，这可能会加热涂层室壁和其他区域。因此，

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真空系统中的高频放电

真空系统中的高频放电

高频放电是由于两个电子之间存在高频交变电场而引起的放电形式。当在放电管两端施加交变电压时，气体中的电子和正离子在交变电场的作用下产生附加的谐波振动。

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